Fenol

 Abstrak

Pengolahan limbah cair telah dikembangkan dengan suatu teknologi yang disebut dengan Advance Oxidation Processes (AOP). Dalam proses ini digunakan radikal hidroksil (●OH) sebagai pengoksidnya. Radikal hidroksil ini memiliki kemampuan oksidasi yang besar yaitu 2,8 V, sehingga polutan organik maupun anorganik dapat didegradasi oleh radikal tersebut. Dalam penelitian ini akan dilakukan degradasi polutan fenol dengan proses oksidasi dan foto-oksidasi. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk menentukan persentase penurunan kadar fenol terbesar akibat pengaruh kedua proses tersebut. Sampel berupa larutan fenol dioksidasi dengan reagen Fenton yaitu campuran oksidator H₂O₂ dan FeSO₄ kemudian diradiasi dengan UV. Setelah dioksidasi, fenol dalam larutan ditentukan konsentrasinya. Jenis oksidator lain yang digunakan yaitu ozon dan ozon yang diradiasi dengan UV. Hasil dari penelitian ini adalah radiasi UV saja tanpa tambahan oksidator-kimia hanya mampu menurunkan kadar fenol hingga 20,34 % pada menit ke 50. Sedangkan jika menggunakan oksidator H₂O₂ dan radiasi UV, kadar fenol dapat turun hingga 60,59 %, menggunakan oksidator FeSO₄ yang dibantu dengan radiasi UV, dapat menurunkan kadar fenol sampai  54,88 %. Adapun reagen Fenton yang tanpa radiasi UV dan reagen Fenton yang diradiasi UV (Fotofenton) masing-masing dapat mendegradasi fenol hingga 74,26 % dan 79,99 %. Penggunaan oksidator ozon tanpa dan dengan radiasi UV masing-masing dapat mendegradasi fenol hingga 64,10 % dan 77,69 %, pada menit ke 50. Berdasarkan hasil tersebut dapat disimpulkan bahwa radiasi UV sangat berpengaruh positif dalam menurunkan konsentrasi fenol dalam larutan secara oksidasi, hal ini disebabkan karena UV dalam larutan akan bereaksi dengan oksidator untuk membentuk radikal hidroksil yang besar kemampuan oksidasinya.