Abstrak
Pengolahan limbah cair telah dikembangkan
dengan suatu teknologi yang disebut dengan Advance
Oxidation Processes (AOP). Dalam proses ini digunakan radikal hidroksil
(●OH) sebagai pengoksidnya. Radikal hidroksil ini memiliki kemampuan oksidasi yang
besar yaitu 2,8 V, sehingga polutan organik maupun anorganik dapat didegradasi
oleh radikal tersebut. Dalam penelitian ini akan dilakukan degradasi polutan fenol
dengan proses oksidasi dan foto-oksidasi.
Tujuan dari penelitian ini adalah untuk
menentukan persentase penurunan kadar fenol terbesar akibat pengaruh kedua
proses tersebut. Sampel berupa larutan fenol dioksidasi dengan reagen Fenton
yaitu campuran oksidator H2O2 dan FeSO4 kemudian
diradiasi dengan UV. Setelah dioksidasi, fenol dalam larutan ditentukan
konsentrasinya. Jenis oksidator lain yang digunakan yaitu ozon dan ozon yang
diradiasi dengan UV. Hasil dari penelitian ini adalah radiasi UV saja
tanpa tambahan oksidator-kimia hanya mampu menurunkan kadar fenol hingga 20,34
% pada menit ke 50. Sedangkan jika menggunakan oksidator H2O2
dan radiasi UV, kadar fenol dapat turun hingga 60,59 %, menggunakan oksidator
FeSO4 yang dibantu dengan radiasi UV, dapat menurunkan kadar fenol
sampai 54,88 %. Adapun reagen Fenton
yang tanpa radiasi UV dan reagen Fenton yang diradiasi UV (Fotofenton)
masing-masing dapat mendegradasi fenol hingga 74,26 % dan 79,99 %. Penggunaan oksidator
ozon tanpa dan dengan radiasi UV masing-masing dapat mendegradasi fenol hingga
64,10 % dan 77,69 %, pada menit ke 50. Berdasarkan hasil tersebut dapat
disimpulkan bahwa radiasi UV sangat berpengaruh positif dalam menurunkan
konsentrasi fenol dalam larutan secara oksidasi, hal ini disebabkan karena UV
dalam larutan akan bereaksi dengan oksidator untuk membentuk radikal hidroksil
yang besar kemampuan oksidasinya.